分散劑對(duì)硅晶片研磨的影響有哪些？

    硅片用的磨料主要是碳化硅，因?yàn)樗哪嫌捕仁?.5，僅次于金剛石，而且導(dǎo)熱性好，抗氧化能力高。目前，懸浮和分散性的研磨液體能源不能完全滿足生產(chǎn)需要。如果性能的劣質(zhì)研磨液在研磨工藝中造成嚴(yán)重的芯片磨損和缺陷，將對(duì)后續(xù)加工工序產(chǎn)生非常不利的影響，甚至造成晶圓損壞，影響生產(chǎn)效率，造成重要損失。

    好的研磨溶液應(yīng)該有好的懸浮，均勻，分散和適中的粘度PH值如果研磨液體的性能不好，磨料與磨盤的接觸不會(huì)是均勻，會(huì)導(dǎo)致應(yīng)力不均勻，出現(xiàn)碎片和劃痕，嚴(yán)重影響硅片的平整度。

    為了獲得穩(wěn)定的分散研磨溶液，需要將體系中的電位絕對(duì)值控制在較高的位置。分散劑和活性劑對(duì)碳化硅懸浮性能的影響。分散劑的作用是降低分散體系中各種粒子的聚集程度。在碳化硅懸浮分散體系的制備中加入分散劑，可以提高體系的分散懸浮性能，保持體系相對(duì)穩(wěn)定。

    分散劑效應(yīng)對(duì)碳化硅磨料分散的作用機(jī)理是，它吸附在顆粒，表面，從而增加了粒子的表面電位，進(jìn)一步增加了相互排斥。顆粒表面必須達(dá)到一定的吸附量才能使磨料體系穩(wěn)定存在，所以分散劑的加入有一個(gè)佳值，過多的貨物會(huì)影響懸浮的分散性，只有通過選擇合適的分散劑將研磨的分散性和懸浮溶液的穩(wěn)定性調(diào)整到良好狀態(tài)，才能發(fā)揮溶液的良好效果。

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